每日视讯：深度金选|东北的尖端科技！拓荆科技有一半净利润是政府补贴，戴维斯双击不会缺席？

(相关资料图)

（原标题：深度金选|东北的尖端科技！拓荆科技有一半净利润是政府补贴，戴维斯双击不会缺席？）

今年以来，拓荆科技股价气势如虹，经过两个多月的酝酿之后拔地而起，目前处于高位横盘状态，明显跑赢大盘和行业指数，涨幅已达180%。

4月20日限售股解禁之后，股价上冲动力趋弱，长期盘整反映了当前进退维谷的处境，股价下行，强劲的经营业绩可以构成一定支撑，股价上行，前期的减持利空信号和人才流失等经营难题都会形成压制阻力，究竟该何去何从？

一、依赖政府补贴，人才流失不容乐观

落户在东北沈阳的拓荆科技，为中国的半导体制造业打破卡脖子现状发光发热，其产品聚焦于薄膜沉积设备，这是三大半导体制造核心设备之一。

在半导体设备中，薄膜沉积设备、光刻设备、刻蚀设备共同构成芯片制造三大核心设备，决定了芯片制造工艺的先进程度。而薄膜沉积设备所沉积的薄膜是芯片结构内的功能材料层，直接影响芯片的性能，且不同芯片结构所需要的薄膜材料种类不同、沉积工序不同、性能指标不同，对薄膜材料性能的要求极其严格。

薄膜设备研制技术难度也极高，相应产生了巨大的薄膜沉积设备市场，其市场规模约占晶圆制造设备市场规模的 22%，2022 年全球薄膜沉积设备市场规模达 229 亿美元。

和遭遇寒气的国际半导体设备巨头不同，盛美上海、中微公司(688012)等国内实力领先的半导体设备公司在2022年赚到盆满钵满，拓荆科技也首次实现盈利并成功摘 "U"。实现营收17.06亿元，同比增长125.02%；归属于上市公司股东的净利润3.69亿元，同比增长438.09%。

2022年上市时，拓荆科技的离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列已经广泛应用于国内晶圆厂 14nm 及以上制程集成电路制造产线，并已展开 10nm 及以下制程产品验证测试。其客户覆盖中芯国际、华虹、长江存储、长鑫存储等国内主流晶圆厂。

但刺眼的是，2022年拓荆科技非经营性收入1.9亿元，同比上涨，占净利润超过50%，其中政府补助高达1.7亿元，换言之，拓荆科技净利润极其依赖政府补助，主营业务对净利润贡献不足，盈利能力有限。

此外，地处东北的拓荆科技，技术人才流失状况也是不容乐观，招股书显示，2018-2020年拓荆科技研发人员离职人数分别为19人、15人、22人，研发人员离职率分别为13.10%、10.95%和13.02% 。而在公司上市前一年，2021年1-9月仍有27名研发人员离职，这也是拓荆科技IPO时被媒体广泛质疑人才出走不利于研究创新的佐证。

二、减持信号压制股价，依靠业绩突出“包围圈”？

令股价不易挣脱当前横盘躺平的牵制因素，除了人才外流的焦虑之外，减持也令拓荆科技股价重振乏力，可是随着后期股权激励逐一被成功解锁，拓荆科技是否有望依靠业绩突出“包围圈”？

4月20日拓荆科技共有4111万股限售股解禁，占总股本的32.5%。这部分股份共涉及12家机构，有7家位列一季度末的前十股东席，而且所有持股全部解禁。

股份一旦解禁，旋即多家机构纷纷公告减持，持股8.4%的第三大股东、同为半导体设备龙头的中微公司立马抛货，嘉兴君励投资合伙企业（有限合伙）、盐城经济技术开发区燕舞半导体产业基金（有限合伙）推波助澜。

除此之外，目前已公布减持的三家机构均是因为持股超5%（单独或有一致行动人）必须提前公告，而其他无需发布减持计划即可直接减持的股东，无疑也会对股价产生压力。

从二级市场来看，近一年以来，拓荆科技股价拾级而上，尤其是近日突飞猛涨，截至5月25日收盘，股价累计上涨了约182.00％。此外，2022年拓荆科技实施了股权激励计划，普惠性较强，覆盖了超过公司76％员工，520名员工参与，同时价格吸引力不小，相当于3.5折购买股票。

根据考核要求，2022—2025 四个会计年度，以公司 2021 年营业收入值及 2021 年净利润值（剔除摊销的股份支付费用）为业绩基数，2022年至2025年，营业收入增长率为200％、300％、400％、500％。净利润增长率为270％、490％、700％、900％。

但是这份大礼包并不容易解锁，对应业绩考核要求不低，未来3年净利润需要维持翻倍增长的强劲动力，可以预见，如果增长态势在符合考核要求的区间运动，那么股价可能也会长期处于亢奋状态，出现业绩和股价的戴维斯双击。

关键词：