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每日视讯:深度金选|东北的尖端科技!拓荆科技有一半净利润是政府补贴,戴维斯双击不会缺席?


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(原标题:深度金选|东北的尖端科技!拓荆科技有一半净利润是政府补贴,戴维斯双击不会缺席?)

今年以来,拓荆科技股价气势如虹,经过两个多月的酝酿之后拔地而起,目前处于高位横盘状态,明显跑赢大盘和行业指数,涨幅已达180%。

4月20日限售股解禁之后,股价上冲动力趋弱,长期盘整反映了当前进退维谷的处境,股价下行,强劲的经营业绩可以构成一定支撑,股价上行,前期的减持利空信号和人才流失等经营难题都会形成压制阻力,究竟该何去何从?

一、依赖政府补贴,人才流失不容乐观

落户在东北沈阳的拓荆科技,为中国的半导体制造业打破卡脖子现状发光发热,其产品聚焦于薄膜沉积设备,这是三大半导体制造核心设备之一。

在半导体设备中,薄膜沉积设备、光刻设备、刻蚀设备共同构成芯片制造三大核心设备,决定了芯片制造工艺的先进程度。而薄膜沉积设备所沉积的薄膜是芯片结构内的功能材料层,直接影响芯片的性能,且不同芯片结构所需要的薄膜材料种类不同、沉积工序不同、性能指标不同,对薄膜材料性能的要求极其严格。


薄膜设备研制技术难度也极高,相应产生了巨大的薄膜沉积设备市场,其市场规模约占晶圆制造设备市场规模的 22%,2022 年全球薄膜沉积设备市场规模达 229 亿美元。

和遭遇寒气的国际半导体设备巨头不同,盛美上海、中微公司(688012)等国内实力领先的半导体设备公司在2022年赚到盆满钵满,拓荆科技也首次实现盈利并成功摘 "U"。实现营收17.06亿元,同比增长125.02%;归属于上市公司股东的净利润3.69亿元,同比增长438.09%。


2022年上市时,拓荆科技的离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列已经广泛应用于国内晶圆厂 14nm 及以上制程集成电路制造产线,并已展开 10nm 及以下制程产品验证测试。其客户覆盖中芯国际、华虹、长江存储、长鑫存储等国内主流晶圆厂。

但刺眼的是,2022年拓荆科技非经营性收入1.9亿元,同比上涨,占净利润超过50%,其中政府补助高达1.7亿元,换言之,拓荆科技净利润极其依赖政府补助,主营业务对净利润贡献不足,盈利能力有限。

此外,地处东北的拓荆科技,技术人才流失状况也是不容乐观,招股书显示,2018-2020年拓荆科技研发人员离职人数分别为19人、15人、22人,研发人员离职率分别为13.10%、10.95%和13.02% 。而在公司上市前一年,2021年1-9月仍有27名研发人员离职,这也是拓荆科技IPO时被媒体广泛质疑人才出走不利于研究创新的佐证。

二、减持信号压制股价,依靠业绩突出“包围圈”?

令股价不易挣脱当前横盘躺平的牵制因素,除了人才外流的焦虑之外,减持也令拓荆科技股价重振乏力,可是随着后期股权激励逐一被成功解锁,拓荆科技是否有望依靠业绩突出“包围圈”?

4月20日拓荆科技共有4111万股限售股解禁,占总股本的32.5%。这部分股份共涉及12家机构,有7家位列一季度末的前十股东席,而且所有持股全部解禁。

股份一旦解禁,旋即多家机构纷纷公告减持,持股8.4%的第三大股东、同为半导体设备龙头的中微公司立马抛货,嘉兴君励投资合伙企业(有限合伙)、盐城经济技术开发区燕舞半导体产业基金(有限合伙)推波助澜。

除此之外,目前已公布减持的三家机构均是因为持股超5%(单独或有一致行动人)必须提前公告,而其他无需发布减持计划即可直接减持的股东,无疑也会对股价产生压力。


从二级市场来看,近一年以来,拓荆科技股价拾级而上,尤其是近日突飞猛涨,截至5月25日收盘,股价累计上涨了约182.00%。此外,2022年拓荆科技实施了股权激励计划,普惠性较强,覆盖了超过公司76%员工,520名员工参与,同时价格吸引力不小,相当于3.5折购买股票。

根据考核要求,2022—2025 四个会计年度,以公司 2021 年营业收入值及 2021 年净利润值(剔除摊销的股份支付费用)为业绩基数,2022年至2025年,营业收入增长率为200%、300%、400%、500%。净利润增长率为270%、490%、700%、900%。

但是这份大礼包并不容易解锁,对应业绩考核要求不低,未来3年净利润需要维持翻倍增长的强劲动力,可以预见,如果增长态势在符合考核要求的区间运动,那么股价可能也会长期处于亢奋状态,出现业绩和股价的戴维斯双击。

(责任编辑:李显杰 )

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